Holika Holika The Real Mask Cica Gel Hüdrogeel näomask 35g
See on hüdrogeelne näomask, mis on mõeldud tundliku naha rahustamiseks ja taastamiseks. See sisaldab 7CICA kompleksi, mis on saadud külmpressimise teel, ja pantenooli, millel on rahustavad ja niisutavad omadused.
Maski ainulaadne omadus on selle võime muuta värvi: kui maski toimeained imenduvad, muutub see poolläbipaistvaks, andes märku, et on aeg seda eemaldada.
See mask sobib kõikidele nahatüüpidele, eriti tundlikule nahale.
- Pärast puhastamist kandke nahale toonik, et ühtlustada naha tekstuuri.
- Eemaldage kaitsekile ja kandke maski ülemine osa silmade ümber ja alumine osa suu ümber.
- Jätke mask näole umbes 40 minutiks või kuni see muutub läbipaistvaks, mis näitab, et toimeained on täielikult imendunud. Aeg võib erineda sõltuvalt naha seisundist.
- Eemaldage mask ettevaatlikult ja vajutage järelejäänud essents õrnalt naha sisse, et see paremini imenduks.
Vihje: Kasutage silmade ja suu ümbrusest eemaldatud maski tükke probleemsetel kohtadel, nagu kortsukesed ja kulmuvaheline piirkond.
Water, Glycerin, Butylene Glycol, Cocos Nucifera (Coconut) Oil, Glycereth-26, Niacinamide, Chondrus Crispus Powder, 1,2-Hexanediol, Ceratonia Siliqua (Carob) Gum, Dipropylene Glycol, Hydroxyacetophenone, Polyacrylate-13, Xanthan Gum, Centella Asiatica Extract, Polyglyceryl-3 Methylglucose Distearate, Betaine, Hydrogenated Polyisobutene, Panthenol, Glucomannan, Potassium Chloride, Cellulose Gum, Allantoin, Sodium Polyacrylate, Adenosine, Melia Azadirachta Leaf Extract, Polyglyceryl-10 Laurate, Dipotassium Glycyrrhizate, Ethylhexyl Palmitate, Ethylhexylglycerin, Sorbitan Isostearate, Melia Azadirachta Flower Extract, Sodium Hyaluronate, Tocopherol, Centella Asiatica Leaf Extract, Centella Asiatica Root Extract, Madecassoside, Asiaticoside, Asiatic Acid, Madecassic Acid The ingredients are constantly updated. Before using a product, please read the list of ingredients on its packaging to ensure they are suitable for your personal use.
