Acnemy Zitmask Anti-Blemish Sulfur Mask Puhastav näomask 100ml
- Puhastage oma nahka Zitmask® näomaski abil, mis imab liigset rasu, parandab pooride välimust, vähendab plekke ja sära ning jätab naha pehmeks, siledaks ja matiks.
- See sisaldab 10% väävlit, mis on tuntud oma antibakteriaalsete omaduste poolest, mis aitab absorbeerida liigset rasu ja puhastada poore. Samuti sisaldab 2% salitsüülhapet, mis koorib nahka õrnalt, takistab uute mustade pähe tekkimist ja tungib pooridesse, et aidata rasu lahustada ja sügavuti puhastada.
- Sobib ideaalselt kombineeritud, rasusele või aknele kalduvale nahale. Kasutage 1-2 korda nädalas, et nautida puhast ja siledat nahka!
- - Puhastab nahka sügavuti.
- - Vähendab plekke, akne ja mustpead.
- - Kontrollib liigset rasu ja hoiab ära edasised nahapursked.
- - Annab pehme, sileda ja mati jume.
Kandke paks kiht toodet puhtale nahale, vältides silmaümbruse piirkonda. Jäta 10-15 minutiks ja loputa maha leige veega. Parim kasutusviis 1-2 korda nädalas. Kasutage õhtul.
Ainult välispidiseks kasutamiseks. Vältida otsest kokkupuudet silmadega. Silmadega kokkupuute korral loputada kohe veega. Mitte kasutada ärritunud või kahjustatud nahal. Hoida lastele kättesaamatus kohas.
Aqua (Water), Glycerin, Sulfur, Cetearyl Alcohol, Kaolin, Propanediol, Caprylic/capric Triglyceride, Octyldodecanol, Cocamidopropyl Dimethylamine, Salicylic Acid, Glyceryl Stearate, Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil, Squalene, Sphingomonas Ferment Extract, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Beta-sitosterol, Potassium Cetyl Phosphate, Disteardimonium Hectorite, Peg-40 Stearate, Ceteareth-20, Propylene Carbonate, Disodium Edta, Tocopherol, Phosphoric Acid, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Phenoxyethanol. The ingredients are constantly updated. Before using a product, please read the list of ingredients on its packaging to ensure they are suitable for your personal use.
